【光刻胶是什么】光刻胶是半导体制造过程中不可或缺的关键材料之一，主要用于微电子器件的精细加工。它在光刻工艺中起到“桥梁”的作用，将设计好的电路图案转移到硅片或其他基板上，是实现纳米级制造的核心技术。
一、
光刻胶是一种对光敏感的有机材料，广泛应用于集成电路、液晶显示器（LCD）、LED等微电子产品的制造中。其主要功能是在光刻过程中，通过曝光和显影步骤，将设计的图形精确地转移到基板表面。根据不同的用途，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶，以及不同波长的光刻胶类型，如紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶等。
光刻胶的质量直接影响最终产品的性能和良率，因此其研发与生产技术具有很高的门槛。目前，全球光刻胶市场由少数几家国际大公司主导，但随着国内半导体产业的快速发展，国产光刻胶也在逐步崛起。
二、表格展示
| 项目 | 内容 |
| 定义 | 光刻胶是一种对光敏感的有机材料，用于在光刻工艺中将电路图案转移到基板上。 |
| 主要用途 | 集成电路、液晶显示器（LCD）、LED、MEMS等微电子器件的制造。 |
| 分类（按感光特性） | 正性光刻胶、负性光刻胶 |
| 分类（按波长） | 紫外光刻胶（UV）、深紫外光刻胶（DUV）、极紫外光刻胶（EUV） |
| 工作原理 | 在光照下发生化学变化，经显影后形成所需图形。 |
| 关键性能指标 | 分辨率、灵敏度、抗蚀性、附着力、热稳定性等 |
| 市场格局 | 全球市场由日本、美国、韩国等国家的企业主导，如JSR、陶氏化学、信越化学等。 |
| 国产发展情况 | 国内企业正在加大研发投入，部分产品已实现量产，但仍面临高端产品依赖进口的问题。 |
三、结语
光刻胶作为半导体制造中的核心材料，其技术进步直接关系到整个行业的技术水平和竞争力。随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的发展，对更高精度、更小尺寸的芯片需求不断增长，光刻胶的技术也将在未来持续演进。